计算鸢尾花192的曝光时间的程序
该程序的开发是为了计算使用电离辐射虹膜192的工业来源进行射线照相检查的暴露时间。
计算曝光时间集：
- CI的当前活动
- 毫米的辐射厚度；
- mm中的焦距。
并选择膜的类型，变黑密度和受控材料。
如果输入源数据，则自动计算当前活动：初始活动和估计的收据日期。您可以指定该程序中的五个来源。
知道虹膜192同位素的半衰期，即74.4天，计算了当前活动。
使用有关受控对象（标准尺寸，焊接关节类别）的已知数据，可以计算焦距以及受控区域的数量。
如果您发现任何错误或对该程序的进一步开发有任何建议，请通过电子邮件写信给我。
暴露时间计算是实验性的，可能不符合您的规格。
（由Google翻译翻译的文字）
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